研究用、開発用真空機器の開発
CVD装置、スパッタ装置、真空ユニット(排気用)等ご希望のご予算に応じて設計致します。
CVD装置
対応基板サイズ |
2in×1枚
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基板回転機構 |
磁気シール、0〜20rpm
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基板ヒーター |
セラミックタイプ <600℃
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恒温槽 |
450×450×500mm
200℃ max
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ガス噴出ノズル |
1/4"
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ガス接続 |
原料:1/4"VCR
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予備室接続 |
ナシ
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真空排気装置 |
ドライポンプ
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MOPZ-500型
対応基板サイズ |
4in×1枚
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基板回転機構 |
オプション
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基板ヒーター |
抵抗加熱 300℃<
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恒温槽 |
450×450×500mm
200℃ max
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ガス噴出ノズル |
1/4"
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ガス接続 |
原料:1/4"VCR
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予備室接続 |
ナシ
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真空排気装置 |
ドライポンプ
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MOPZ-600型