研究用、開発用真空機器の開発|プレコ株式会社

研究用、開発用真空機器の開発

CVD装置、スパッタ装置、真空ユニット(排気用)等ご希望のご予算に応じて設計致します。

CVD装置

対応基板サイズ
2in×1枚
基板回転機構
磁気シール、0〜20rpm
基板ヒーター
セラミックタイプ <600℃
恒温槽
450×450×500mm
200℃ max
ガス噴出ノズル
1/4"
ガス接続
原料:1/4"VCR
予備室接続
ナシ
真空排気装置
ドライポンプ

_NowPrinting.jpgMOPZ-500型

対応基板サイズ
4in×1枚
基板回転機構
オプション
基板ヒーター
抵抗加熱 300℃<
恒温槽
450×450×500mm
200℃ max
ガス噴出ノズル
1/4"
ガス接続
原料:1/4"VCR
予備室接続
ナシ
真空排気装置
ドライポンプ

photo_MO600.jpgMOPZ-600型